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1. Dielectric suppression of nanosolid silicon 代表性成果 SCIE

作者:Pan, LK; Sun, CQ; Chen, TP; Li, S; Li, CM; Tay, BK

通讯作者地址:Pan, LK (reprint author), Nanyang Technol Univ, Sch Elect & Elect Engn, Singapore 639798, Singapore.

作者机构:[Pan, LK; Sun, CQ; Chen, TP; Li, S; Li, CM; Tay, BK]Nanyang Technol Univ, Sch Elect & Elect Engn, Singapore 639798, Singapore.

来源:NANOTECHNOLOGY,2004,15,12,1802-1806

收录类别:SCIE;

当年影响因子:3.44

WOS被引:22

资源类型:外文期刊论文

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