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3. Interface roughness effects on the performance of magnetic tunnel junctions 代表性成果 SCIE

作者:Zhang, ZZ; Zhao, H; Ren, Y; Ma, B; Jin, QY

通讯作者地址:Zhang, ZZ (reprint author), Fudan Univ, State Key Lab Adv Photon Mat & Devices, Handan Rd 220, Shanghai 200433, Peoples R China.

作者机构:[Zhang, ZZ; Zhao, H; Ren, Y; Ma, B; Jin, QY]Fudan Univ, State Key Lab Adv Photon Mat & Devices, Shanghai 200433, Peoples R China.;[Zhang, ZZ; 更多

来源:THIN SOLID FILMS,2007,515,7-8,3941-3945

收录类别:;SCIE

当年影响因子:1.879

WOS被引:2

资源类型:外文期刊论文

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