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1. 表面活性剂对硫醇单层膜修饰金电极电化学行为的影响 知网 万方 维普 SCIE CSCD

作者:马勇;王建国;惠飞;霍俊杰;臧树良

通讯作者地址:Ma, Y (reprint author), E China Normal Univ, Dept Chem, Shanghai 200062, Peoples R China.

作者机构:[马勇;臧树良]华东师范大学化学系,上海;[马勇;王建国;惠飞;霍俊杰;臧树良]辽宁大学稀散金属研究所,沈阳

来源:化学学报,2006,64,13

收录类别:知网;万方;维普;SCIE;CSCD

当年影响因子:2.131

资源类型:中文期刊论文;外文期刊论文

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