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1. 基于分子间侧向氢键作用的电光材料制备及性能 SCIE SCOPUS EI 知网 CSCD 维普

作者:张清忠;张俊美;刘玉萍;任晓;黄炜

通讯作者:Huang, Wei

通讯作者地址:Huang, W (reprint author), E China Normal Univ, Sch Chem & Mol Engn, Shanghai 200241, Peoples R China.

作者机构:[张清忠;张俊美;刘玉萍;任晓;黄炜]华东师范大学化学与分子工程学院,上海;[张俊美]中国兵器工业第五二研究所烟台分所,烟台 更多

来源:高等学校化学学报,2015,36,10,2053-2060

收录类别:SCIE;SCOPUS;EI;知网;CSCD;维普

当年影响因子:0.677

资源类型:中文期刊论文;外文期刊论文

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